商品介紹
半導體試驗形狀曝光
(如二維材料，無光罩研發，曝光單位針對無光罩研發需求)
- 顯微鏡LED曝光系統(UTA系列)為無須使用光罩即可進行形狀曝光的投影式曝光設備。
- 使用金屬顯微鏡及LED光源DLP投影機，因此可以於顯微鏡下進行校正，即可將解析度數μm的任意形狀投影於塗布光阻的基板上進行曝光。
- 欲曝光的圖形可以透過專用軟體自由編輯，並且將製作完成的圖形進行保存。另外，也可以讀取外部已製成的BMP檔案進行曝光。
- 此設備可以於各種大小、形狀的層狀物質單結晶薄片上在大氣的環境下製成電極所需圖形，因此與電子束曝光機相比之下，價格相較於便宜且使用方便性也較高。除此之外，也無需使用高單價的電極圖形製作光罩即可完成曝光。
＜用途例＞
薄膜FET或Hole效果量測用試料的電極形成。
從石墨烯・鉬原石取出的薄片，需進行原石特性評估時的電極形成。
研究開發用的曝光圖形製作。
＜特徴＞
此設備為顯微鏡和DLP投影機的組合設備，因此比現有市面上的其他曝光設備便宜。
光源用LED白光照射。可設定任意的曝光時間。
搭配易於使用的操作軟體，因此可以簡便的製作所需曝光圖形。→ 附有正負曝光轉換功能（可支援一鍵點擊）。
可以讀取其他軟體製作的複雜型BMP檔案進行照射。
透過不同物鏡倍率進行曝光，因此從細微的形狀到廣範圍的曝光需求皆可對應。
基本上可安裝在所有的顯微鏡上（需確認現有顯微鏡的規格後評估）。
可製作解析度數μｍ等級的形狀。
最小線寬約１μｍ（非保證值）
曝光範圍：物鏡 5X：約 1.85mm×1.15mm / 物鏡 100X：約 90μｍ×57μｍ
※以上為UTA-1AS-53M-SET 的參考值。
專用軟體製作
專用軟體製作
形狀大小及位置設定
實際曝光設定
曝光後影像